我们的半导体超纯水系统严格遵循 SEMI 标准，有效控制水中的离子、微粒、TOC、金属、细菌、溶解氧等关键指标，满足 14nm 及以下先进制程的用水要求，保障芯片良率与产品可靠性，为半导体制造企业提供稳定可靠的超纯水供应保障。
超纯水设备工艺流程:
（1）预处理+双级反渗透+电去离子+抛光混合床
（2）预处理+单级反渗透+电去离子
（3）预处理+单级反渗透+再生混床
超纯水设备性能介绍:
（1）超纯水设备的反渗透系统全自动，采用中国制造的部件，保证了高稳定性和简单、方便的操作。
（2）超纯水设备配有专用浓度调节阀，操作方便。
（3）超纯水设备配有紫外线和膜过滤器，防止细菌影响EDI和水质。
（4）通过专业技术，超纯水设备在EDI系统短期或长期停机期间，确保水质稳定。
（5）超纯水设备采用中国原装顶级EDI膜堆，性能稳定，使用寿命长，出水水质连续稳定，不变。其专利的“全填充”浓缩室消除了加盐和浓缩液循环的需要。
（6）超纯水设备中的EDI流量计采用磁感应浮子流量计，防止因浓缩通道堵塞或其他设备故障导致浓缩液无法生产而对膜堆造成损坏。
（7）超纯水设备具有缺水保护和高/低压保护等多项安全功能。
（8）超纯水设备所有控制均为全自动，主要部件采用进口，保证了高稳定性和操作简单、方便。
（9）超纯水设备主要电气元件选用中国领先品牌，保证质量和数量，设计配置最优化。
